单腔室溅射设备

机型：XHCS系列

单腔室溅射设备....

设备特点

• 高效沉积磁场约束显著提高了等离子体密度，使溅射速率远高于传统溅射方法。 • 低温成膜电子能量主要用于电离而非加热基片，基片温升低，适用于塑料、半导体等对温度敏感的材料。 • 膜层质量优异所得薄膜致密、均匀，与基片结合力强，成分接近靶材，适合高性能功能薄膜制备。 • 适用材料广泛可溅射金属、合金、陶瓷、氧化物等多种材料，支持反应溅射制备化合物薄膜(如氮化物、氧化物)。

产品与技术

单腔室溅射设备

适用领域

车载中控屏

AR玻璃

手机背板