ALD设备

机型：

ALD设备....

设备特点

• 高精度膜厚控制:薄膜厚度与循环次数相关，误差可控制在原子级别。 • 优异均匀性:可在大面积基底上实现较好的均匀性薄膜。 • 卓越保形性:对复杂三维结构(如深孔、台阶)的覆盖率接近100%，适用于高深宽比器件。 • 低温工艺兼容性:沉积温度通常低于300℃，可处理热敏感材料。 • 材料多样性:可沉积金属(如铝、钛、铜)、氧化物(如氧化铝、氧化锡、氧化锌、氧化钛、氧化铪、氧化硅)、氮化物(如氮化钛)等多种薄膜。

产品与技术

ALD设备

适用领域

钙钛矿电池

半导体芯片

锂电行业