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新闻资讯

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光学镀膜机制备ITO薄膜的研究与应用
光学镀膜机制备ITO薄膜的研究与应用
2025-02-06
在现代电子技术与光学领域,氧化铟锡(ITO)薄膜作为一种重要的透明导电材料,因其卓越的导电性和高透光率而备受瞩目。ITO薄膜广泛应用于液晶显示器、触摸屏、太阳能电池、有机发光二极管(OLED)及抗静电镀膜等领域。
蒸发镀膜工艺解析:膜层沉积原理与薄膜生长特性
蒸发镀膜工艺解析:膜层沉积原理与薄膜生长特性
2025-01-20
蒸发镀膜,作为一种广泛应用的物理气相沉积(PVD)技术,其核心在于通过加热蒸发源使固体材料升华或蒸发成蒸气,进而在基片表面凝结形成薄膜。这一过程不仅依赖于复杂的物理机制,还涉及多个关键因素,共同影响着薄膜的质量和性能。
磁控溅射技术:薄膜制备的精密工艺
磁控溅射技术:薄膜制备的精密工艺
2025-01-13
磁控溅射,作为物理气相沉积(PVD)的一种,其核心在于利用电场和磁场的交互作用,将靶材表面的原子或分子溅射出来,并在基底上沉积形成薄膜
原子层沉积(ALD)技术揭秘
原子层沉积(ALD)技术揭秘
2025-01-09
原子层沉积(Atomic Layer Deposition,简称ALD)是一种先进的薄膜沉积技术,基于表面自限制反应原理,通过交替引入前驱体并化学吸附反应形成原子级别的薄膜。这种技术以其高精度、高均匀性和优异的保形性,在微电子、纳米技术和光学等多个领域得到了广泛应用。
PVD镀膜技术:打造新能源汽车的美学新高度
PVD镀膜技术:打造新能源汽车的美学新高度
2025-01-06
PVD真空镀膜技术是一种在真空环境中,通过物理方法将金属或其他材料沉积在基体表面的技术。它主要分为真空蒸发镀膜、真空溅射镀膜和真空离子镀膜三种类型。其中,真空溅射镀膜和真空离子镀膜在汽车制造中应用最为广泛。