公司新闻-深圳市星海威真空设备有限公司

靶材在真空镀膜工艺中的关键应用

2025-12-10

靶材，是一种用于物理气相沉积（PVD）、化学气相沉积（CVD）等薄膜制备技术中的高纯度材料。

离子源技术及其在真空镀膜中的应用

2025-11-24

离子源技术作为现代材料加工与表面改性领域的核心技术之一，通过将中性原子或分子电离并引出离子束流，为真空镀膜、离子注入、高能物理等应用提供了基础支撑。

PVD镀膜中溅射工艺的技术解析

2025-11-03

溅射工艺作为物理气相沉积（PVD）技术的核心分支，通过高能粒子轰击靶材实现原子级材料转移，在薄膜制备领域占据重要地位。其独特的沉积机制与工艺优势，使其成为现代制造业中不可或缺的表面处理技术。

真空知识丨怎样有效降低真空系统漏气率？

2025-09-03

真空系统通过抽气设备将特定空间内的气体抽出，形成低于大气压的环境，在半导体制造、航空航天、材料科学研究等众多领域发挥着不可或缺的作用。

装饰性真空镀膜原理及应用

2025-08-25

装饰性真空镀膜是一种在真空环境下通过物理或化学方法将材料沉积在基材表面以形成薄膜的技术。其基本原理可概括为：在真空环境下，通过能量激发（如电离、热蒸发或等离子体轰击），使镀膜材料转化为气态粒子，最终在基材表面凝结形成纳米级薄膜。

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