2025年9月10日至12日,第26届中国国际光电博览会(CIOE中国光博会)在深圳国际会展中心盛大启幕。作为国内真空镀膜技术领域的标杆企业与先锋代表,海威真空携多项行业前沿技术与创新解决方案精彩亮相,与全球光电产业精英共聚一堂,深度交流并共同探索材料制备技术的未来新趋势与突破方向。

展会期间,海威真空展台吸引了来自光学镜头、半导体、显示设备等多个领域的众多专业客户。大家普遍关注产能效率、膜层均匀度等关键性能指标。通过现场深入的技术交流,客户得以全面、系统地了解海威真空的技术解决方案。多家企业在交流中表达了明确的合作意向,并约定前往公司总部参观相关设备,进一步探讨合作契机。



技术特点:
•能够实现0-200层膜的膜系镀膜;
•可沉积金属膜、半导体膜、及各类化合(氧化物、氮化物、碳化物等)膜;
•配置高精密的电子枪和离子源;
•集成电阻蒸发,镀膜工艺和膜厚自动控制,薄膜质量稳定。
应用领域:
各种光学薄膜,如减反/增透膜、反射膜、分光膜、带通滤光片、红外增透/截止膜、光通信薄膜等各种膜系

技术特点:
•大面积镀膜,多室多靶位,灵活性大;
•磁导向传输系统,平稳可靠;
•镀膜前有离子源对基片进行表面清洗和活化,提高附着力,改善膜层质量;
•真空室加Polycold捕集水蒸汽,提高抽气能力;
•便于维修的侧装分子泵和全开式真空室门;
•自行开发的方便的用户易操作控制软件;
•真空室的模块式设计,单点定位,便于拆装
应用领域:
AR镀膜、ITO、变色玻璃、太阳能电池等行业的不同领域
在为期三天的展会上,海威真空呈现了其在光学镀膜领域多年技术积累的成果,并与客户及合作伙伴就膜层性能、自动化生产、产能优化等议题展开深入交流。未来,公司将持续推进技术研发与产线升级,致力于为行业提供更高性能与成本效益平衡的镀膜设备及整体解决方案。
