型号:XHE系列
精密光学电子枪蒸镀系统,专门为光学薄膜器件镀膜而设计,各系统设计和整体结构满足光学薄膜生产工艺要求
真空指标:极限真空:5.0E-5Pa(洁净空载、有伞架、有护板、无基板情况下)
抽空时间:大气至3.0E-3Pa≦15min 真空压升率:≦0.5Pa/h(洁净空载、抽空至极限真空后开始测试)
烘烤指标:最高温度300℃,多点控温,测温准确,PID智能温控系统,温度可控可调。
光学实时监控:先进的光学监控系统,通过安装在腔内的监控组件,实时监控E-beam伞顶上基片的厚度并反馈回系统,通过馈入反馈信息控制成膜系统,达到实时监控修正膜厚的目的。
成膜系统:270°E型双电子枪蒸发源,配备挡板,水冷坩埚有环形和多穴位坩埚可供选择。IAD离子辅助成膜,提高光学膜层特性、改善基片表面活性及附着力等。
可按客户要求提供多腔室方案。
设备主要用于:光学镜片、镜头、光学仪器等领域,可实现增透、反射、分光、高反膜等功能,提高光学元件的性能和品质。它在现代光学、光电技术及半导体等行业中发挥着重要作用。